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企業在海外參展中應當重點關注哪些知識產權問題?

作者:來源:瀏覽次數:發布時間:2020-04-01

       企業在海外參展中常見的知識產權風險集中在專利權(包括發明、實用新型和外觀設計)風險、商標權風險和版權風險,其形式主要表現為產品侵權、材料侵權,也可能會遇到自身產品被他人仿冒的風險。因此,企業在海外參展中應重點關注:

       了解參展地的知識產權保護環境信息。包括當地的知識產權法律制度、執法狀況和執法形式、侵權司法程序和判定標準、展會知識產權保護規則、展會以往的知識產權執法案例情況等。

       準備合法有效的知識產權權屬證明。包括參展產品在參展地獲得有效保護的知識產權清單、解決潛在知識產權風險的證明材料、授權委托書、當地有資質的律師出具的不侵權報告等。

       收集參展競爭對手可能侵權己方知識產權的證據材料。作為展會維權的相關證據材料,或風險發生時反制對手的相關籌碼。

       分析參展產品的知識產權風險。包括參展產品是否侵犯他人專利和商標權,展臺設計、廣告手冊、宣傳標語、圖片等,如產品說明書、現場演示用軟件或背景音樂等是否侵犯他人著作權、版權,現場使用的電腦中所安裝的軟件是否是正版等。

       形成海外參展知識產權應急預案。建立知識產權應急攻關團隊和決策應對機制,若發現有侵權可能,及時決定是否退出參展,同時啟動知識產權無效程序,或對自身產品開展規避設計,或采取談判和解等有效措施。發現他人侵犯自身知識產權的,評估維權成功可能性,適時展開維權行動。

       有關應對海外參展的更多詳細內容可參見《海外參展知識產權實務指引》。


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